无掩膜激光直写光刻系统|请问什么是掩膜版用来干什么的

绝绝子发布时间： 2024-11-15 08:53:25 100人阅读

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Ⅰ 苏州苏大维格光电科技股份有限公司这个公司属于什么公司比如台资,我应聘的是设计，不知道有没有发展前景

2008.03 - 2011.03 苏州苏大维格光电科技股份有限公司（3年）研发部 |机械设计师仪器仪表及工业自动化内 | 企业性质：股份制容企业 | 规模：100-499人工作描述：1、主要在精密光学仪器（各类光刻机）方面从事非标设计和研发。2、承担了多台宽幅激光直写系统(不同驱动类型)的改造和性能提升。3、参与国家863项目工程的研发设计，独立承担了大幅面龙门双驱光刻系统的整机机械设计和装配工作。4、承担了DMD光刻机、四轴纳米机器及其他高精光刻设备的研发设计。5、选择外协加工厂商，对常见机加工零件报价进行优化处理，订单制定，合同付款处理等。6、安装丝杆传动，齿轮、带轮传动或直线电机直接驱动的移动平台，整机装配调试。7、涉及的所有项目具体设计及二维图纸的输出，文档编写等。

Ⅱ 苏大维格的发展历程

2001年底，苏州苏大维格数码光学有限公司 DigitOptics在苏州工业园区国际科技园注册。2002年5月，正式投入运营。成立初期，致力于“数码激光全息制版系统HoloMaker series”研发、激光全息制版技术服务、光学防伪解决方案、产业化应用。其中，HoloMaker成为中国、香港及韩国、印度等的激光全息行业关键设备，成功促进了中国光学防伪与包装行业技术进步。为此，02年初，获中华人民共和国科技进步二等奖，这是中国激光全息行业颁发最高奖项。公司创始人、董事长是中国光学全息工程领域的著名专家，兼任中国光学学会光信息处理与全息专业委员会主任。2003-2004年，研制成功“定向光变色膜（OVCF）”原版制造技术，成功应用于我国第二代身份证的物理视读膜。同年，研发成功大型纳米压印设备（平压平和卷对卷）。2005年，自主研发并建立了中国首条“定位镭射转移材料生产线”，开创了“定位镭射印刷转移纸张”在烟草印刷包装上的应用先河，“定位激光转移纸张”获得中国专利授权。同年，公司获江苏省高新技术企业认定，通过ISO9001质量管理体系认证。取得了一批激光光刻领域的发明专利权。2006年，成立“江苏省数码激光成像与显示工程研究中心”（科技厅、财政厅批准），主要致力于超精密激光图形关键制造技术（光刻、直写、刻蚀）和装备、新型平板显示背光模组关键材料、光学防伪解决方案、手机导光薄膜等制造技术的研发与应用。2006年，研制成功“宽幅智能激光SLM光刻设备工程样机并投入应用，首家实现了大幅面、高速度的亚微米全息图像的快速光刻，多项中国发明专利授权。企业获“苏州工业园区十佳科技创新小巨人”、“2004-2006年度苏州工业园区民营科技创新十强企业”称号。2007年，建立苏州工业园区博士后工作站维格分站。建立镭射转移膜产能；研制成功HoloScanV紫外激光干涉光刻设备，这是国际上领先水平的亚微米激光直写系统。苏大维格具有了国际一流的超精密图形的设计与制造能力。2007年，研制成功“DMD并行激光光刻系统MicroLab”，具有超过10,000dpi的图形分辨率，主要应用于精密图形设计制造（导光结构、亚微米图形），研发成功手机导光薄膜（LGF），并成立苏州维旺科技有限公司，专注于手机及平板显示光学材料研发与制造。2008年8月，苏大维格数码光学有限公司改制成为“苏州苏大维格光电科技股份有限公司”SVG Optronics，将业务领域扩大到“镭射转移材料”、“平板显示材料”、“高端光学防伪解决方案”和“先进制造装备”（超精密图形激光光刻设备，纳米压印工艺设备、LIGA技术应用等”。配合公安部相关研究院所研发DMD双通道光变色膜，在我国“新驾驶证”“机动车行驶证”上全面应用。2008年9月，苏大维格的“宽幅智能激光SLM光刻系统与应用”荣获江苏省科技进步一等奖（全省第一名）。2008年11月，苏大维格入选“苏州市50家首批科技创新试点企业”。研发成功“导光薄膜”并应用于手机keypad。配合国家邮政印制局推出首套采用“定位镭射图形”29届北京奥运会开幕式纪念邮票等（Stamp in commenoration of Openning ceremony of XXIX Beijing Olympic）。2009年3月，HoloMakerIII-b出口日本；研制成功“无缝彩虹膜压印设备和彩虹膜材料；大型无缝镭射薄膜压印设备出口印尼等国。2009年4月，“激光直写设备iGrapher200”投入应用，具有350nm以上图形直写能力，支持复杂微结构图形制造。2009年5月，研制成功“微透镜阵列光学薄膜”，建立了微透镜阵列的批量制造能力。这是中国第一个集微透镜阵列薄膜研发与制造能力的单位。研制成功具有突破意义的“ActiveMatrix”动态图形光学防伪薄膜，拟用于高层（公安、金融等）防伪领域。2009年7月，苏大维格的“微镜Fresnel技术”应用于茅台“白金酒”防伪包装。2010年5月，研制成功双面UV微纳结构动态光学放大膜。2010年10月，研制成功超大幅面（1500mmx1300mm）激光图形化设备，填补了行业空白。

Ⅲ 光刻机是芯片制造的关键，现在在中国有哪些企业能够研制光刻机

光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备(集团)股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司，合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。而且有了一定的科研成果，但是目前我国高端芯片的制造却主要依赖荷兰进口的光刻机。我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能（中高端光刻机市场已基本没落）ASML（中高端市场近乎垄断）比差距很大。

合肥芯硕半导体有限公司成立与2006年4月,是国内首家半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的ATD4000,已经实现最高200nm的量产。

无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。

先腾光电成立于2013年4月,已经实现最高200nm的量产,在2014国际半导体设备及材料展览会上,先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术,震惊四座。

Ⅳ 光刻机是干什么用的，工作原理是什么

一、用途

光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。

用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。

二、工作原理

在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。

(4)无掩膜激光直写光刻系统扩展阅读

光刻机的结构：

1、测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。

2、激光器：也就是光源，光刻机核心设备之一。

3、光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。

4、能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。

5、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。

6、遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。

7、能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。

8、掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。

9、掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。

10、物镜：物镜用来补偿光学误差，并将线路图等比例缩小。

11、硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。题外话，由于硅片是圆的，所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系，根据缺口的形状不同分为两种，分别叫flat、 notch。

12、内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。

Ⅳ 激光直写，激光加工，光刻技术有什么区别

激光加工是激光系统最常用的应用。根据激光束与材料相互作用的机理，大体可将激光加工分为激光热加工和光化学反应加工两类。激光热加工是指利用激光束投射到材料表面产生的热效应来完成加工过程，包括激光焊接、激光切割、表面改性、激光打标、激光钻孔和微加工等；光化学反应加工是指激光束照射到物体，借助高密度高能光子引发或控制光化学反应的加工过程。包括光化学沉积、立体光刻、激光刻蚀等。由于激光具有高亮度、高方向性、高单色性和高相干性四大特性，因此就给激光加工带来一些其它加工方法所不具备的特性。由于它是无接触加工，对工件无直接冲击，因此无机械变形；激光加工过程中无"刀具"磨损，无"切削力"作用于工件；激光加工过程中，激光束能量密度高，加工速度快，并且是局部加工，对非激光照射部位没有或影响极小。因此，其热影响的区小工件热变形小后续加工最小；由于激光束易于导向、聚焦、实现方向变换，极易与数控系统配合、对复杂工件进行加工因此它是一种极为灵活的加工方法；生产效率高，加工质量稳定可靠，经济效益和社会效益好。激光加工作为先进制造技术已广泛应用于汽车、电子、电器、航空、冶金、机械制造等国民经济重要部门，对提高产品质量、劳动生产率、自动化、无污染、减少材料消耗等起到愈来愈重要的作用。

Ⅵ 5nm激光光刻技术，是否预示着我们即将能取代ASML

5nm激光光刻技术，这只是一种停留在理论阶段的技术，并没有预示着我们即将能取代ASML。

最近ASML拒绝向中芯国际交付最新的光刻机，以及美国制裁华为一事，在网上引发了极大的热议，这也让很多中国人明白了一个道理，只有掌握了核心科技，才能不受制于人。今日，中科院5nm激光光刻技术的研究发布以后，很多人都为之欢呼，认为我们即将能取代ASML。那么，事实真的如此吗？答案当然是否定的。

然后，这篇论文中的方法是通过使用新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法。然而，论文中并没有论证方法的可行性，至于在现实中是否可行，我们仍然不得而知，一些国内的媒体听风就是雨，也实在是有些可笑。一台光刻机由80000个精密零部件构成，如德国蔡司的光学镜头、美国的激光发生器，这些都是目前我们中国目前无法制造出来的。我国的光刻机技术难以突破，不仅是激光光刻加工的方法上，还有其他各种零件的限制，单晶炉，晶圆划片机，光刻胶，电子级多晶硅，氟聚酰亚胺等等，这些都是被国外垄断的东西，由于其他国家的封锁，中国想要获得这些东西，并不容易，毕竟中国还没有能力制造出这些东西。

总而言之，5nm激光光刻技术，并没有预示着我们即将能取代ASML。

Ⅶ 光刻机是芯片制造的关键，现在中国有哪些企业在研究光刻机

国内光刻机技术比较先进，已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司（简称SMEE)，已经实现90nm的量产，目前正在研究65nm的工艺。

其他的包括合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果。

但这些光刻机企业，目前还是在原来的道路上一步一步往前走，相信只要努力，未来也能达到很高的水平。但对于光刻机行业来说，他们的追赶速度虽然很快，但技术进步的速度也是很快。所以，他们只能持续在低端方面，占有一定的市场份额。

也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果，直接将中国光刻机技术向前推进好几代。当然，这个科研成果，距离完整实现量产，还有好几个关卡要过。

首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试，属于单次曝光，还制造不了芯片。其次是，能够实验室制造芯片，还要实现量产，这又是一个关卡。但总的来说，已经有了“光刻分辨力达到22纳米”，那么距离成型机，已经没有那么遥远了。

Ⅷ 请问什么是掩膜版用来干什么的

掩膜版是制作掩膜图形的理想感光性空白板，通过曝光过程，这些图形的信息将被传递到专芯片上，用来制造芯属片。

掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。

(8)无掩膜激光直写光刻系统扩展阅读：

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

其中掩膜版图形数据由用户自行设计并提交，后续加工工艺由工程师完成。由于图形数据准备是掩膜版加工中的关键步骤，要求用户对所提交的版图文件仔细核对，确保图形正确性。以下将对用户较为关心的版图绘制问题作出具体说明。

Ⅸ 什么是微光刻，跟激光光刻有什么区别

微光刻只是光刻的一种说法。一般来说，英文对光刻技术的叫法有photolithography，microlithography等等版，但是意权思上没有本质区别。lithography的英文愿意是印刷，加上photo或者micro目的是区别光刻和传统印刷技术。采用激光进行光刻的种类和用途很多，直接说激光光刻很不科学，因为用激光光源进行光刻的有激光直写光刻，准分子激光步进式投影光刻，准分子激光接触式光刻等等。而光刻技术往往不依据光源来划分，所以这种“激光光刻”的说法还是不要用。光刻的种类很多，采用激光进行光刻的方式只是其中的一部分，所以应该是包含的关系。